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ページID：112348更新日：2024年6月14日

小型イオンビームミリング装置

イオンビームミリング装置は、アルゴン雰囲気下で強い運動エネルギーをもったイオンビームを試料表面に照射しエッチングを行える装置です。試料の硬度に依存することなく表面を高精度に削ることができ、平滑な試料断面を得ることができます。また、物理的な力が加わらないので、試料の変形などもなく、従来研磨が行えなかった軟質素材の断面加工も行える装置です。

【この装置は平成28年度「公益財団法人JKA補助事業（競輪の補助金）」により導入しました。】

小型イオンビームミリング装置紹介パネル（PDF：766KB）

機種名

ライカマイクロシステムズ株式会社

トリプルイオンミリング装置EMTIC3X

仕様

加速電圧	1～10kV
最大試料寸法	断面ミリング用ステージ：幅25mm×奥行き25mm×高さ5mm 平面ミリング用ステージ：直径38mm×高さ12mm
設定可能温度範囲	断面ミリング用ステージ：-150℃～30℃

 

設備使用料

1,670円/1時間（常温加工）

2,210円/1時間（冷却加工）

担当

富士技術支援センター
機械電子技術部

住所：〒403-0004　山梨県富士吉田市下吉田6-16-2

電話：0555(22)2100　Fax：0555(23)6671

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