株式会社イオンテクノセンター　山梨営業所

事業内容

イオンテクノセンターは、お陰様で創業15周年を迎えました。
創業当初は第三セクターのイオン工学研究所を引継ぎ、お客様のニーズに応えるべく営業力と技術力並びに品質を向上して参りました。
社員の方々の創意工夫を続けた結果、事業領域も広がり、現在は、研究開発、イオン注入を中心とした半導体プロセス加工、半導体デバイスの試作、新規材料評価や故障解析、人財育成を中心とした製造請負の5つとなりました。
これから私たちは新たなステージに向かっています。
次のステージでは、新規半導体開発をすることにより電力を削減して社会課題解決に今まで以上に貢献して参ります。

社内風景

私たちの会社について、パーソナリティを一言で表現すると、「プロフェッショナル」「真面目」「多様性」などの言葉があてはまります。これは、会社全員でリブランディングを行った際に出てきた意見でもあります。私たちの8割以上が何らかの業務に特化したエンジニアで、プロ意識は非常に強いと感じています。また、課題に真摯に取り組む姿勢や、他社との関わりかたについては、真面目で丁寧な印象があります。
最近、海外人材の採用にも力を入れている事などから、多様性も培われております。但し、顧客層は日本企業が多い事もあり、共通言語は日本語となっております。職場の雰囲気は、静かな印象を受けますが、分からない事があれば、誰にでも相談でき、丁寧に応えて頂ける環境です。

製品又はサービス

１，イオン注入サービス
特徴：60種類以上のイオン種の注入が可能、高温(500℃迄)での注入が可能、高エネルギー(～8MeV)での注入が可能
２，分析サービス
特徴：半導体材料解析(FIB-SEM、TEM等)、プロセス評価(SIMS,XPS等)、故障解析(EDX等)
３，R＆D
特徴：次世代半導体材料の研究開発(大学、大手企業、スタートアップ企業等)
４，BPOサービス
特徴：上記サービスのインハウス委託等
５，試作開発サービス
特徴：半導体デバイス設計・試作開発等

会社基本情報

今年度採用情報