小型イオンビームミリング装置

名称	小型イオンビームミリング装置
メーカー	ライカマイクロシステムズ株式会社
型式	トリプルイオンミリング装置 EM TIC 3X
概要	イオンビームミリング装置は、アルゴン雰囲気下で強い運動エネルギーをもったイオンビームを試料表面に照射しエッチングを行える装置です。試料の硬度に依存することなく表面を高精度に削ることができ、平滑な試料断面を得ることができます。また、物理的な力が加わらないので、試料の変形などもなく、従来研磨が行えなかった軟質素材の断面加工も行える装置です。小型イオンビームミリング装置紹介パネル（PDF：766KB）
仕様	●加速電圧：1～10kV ●最大試料寸法断面ミリング用ステージ：幅25mm×奥行き25mm×高さ5mm 平面ミリング用ステージ：直径38mm×高さ12mm ●設定可能温度範囲断面ミリング用ステージ：-150℃～30℃
分類	試料調整機器
導入年度	平成28年度
補助事業名	平成28年度公設工業試験研究所等における機械等設備拡充補助事業（公益財団法人JKA）
装置写真

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