更新日:2021年8月26日

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小型イオンビームミリング装置

名称 小型イオンビームミリング装置
メーカー ライカマイクロシステムズ株式会社
型式 トリプルイオンミリング装置 EM TIC 3X
概要 イオンビームミリング装置は、アルゴン雰囲気下で強い運動エネルギーをもったイオンビームを試料表面に照射しエッチングを行える装置です。試料の硬度に依存することなく表面を高精度に削ることができ、平滑な試料断面を得ることができます。また、物理的な力が加わらないので、試料の変形などもなく、従来研磨が行えなかった軟質素材の断面加工も行える装置です。

小型イオンビームミリング装置紹介パネル(PDF:766KB)

仕様

●加速電圧:1~10kV

●最大試料寸法
断面ミリング用ステージ:幅25mm×奥行き25mm×高さ5mm
平面ミリング用ステージ:直径38mm×高さ12mm

●設定可能温度範囲
断面ミリング用ステージ:-150℃~30℃

分類 試料調整機器
導入年度 平成28年度
補助事業名 平成28年度公設工業試験研究所等における機械等設備拡充補助事業(公益財団法人JKA)
装置写真

小型イオンビームミリング装置

 

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